摘要

本文以发明专利201710733227.0的复审决定为例，分析技术问题对方案“创造性”的影响。

发明专利

发明专利申请号：201710733227.0
发明名称：一种改善接触孔插塞氧化物凹陷的工艺方法
专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日：2017-08-24
授权公告日：2019-12-17

案情简介：申请人于2017.8.24提交专利申请，在实审阶段共收到两次审查意见，并且两次审查意见中均指出本申请权利要求1-9不具备专利法第22条第3款规定的创造性，申请人针对审查意见进行两次答复后，审查员认为方案仍然不具备创造性，因此该方案被驳回，申请人于2019.4.9提出复审，复审理由为：（1）对比文件1中的130是指图形，并不是栅切线氧化物；（2）对比文件1没有公开由于层的密度不同而使得接触孔的纵截面形曲的技术问题。因此，本申请权利要求1具备创造性，复审决定为：撤销国家知识产权局对本申请做出的驳回决定撤回原驳回决定。本申请于2019.12.17被授予专利权。

由于本申请涉及半导体制造领域，大家可能平常较少接触这类方案，因此，如果大家感兴趣或者想要对方案的细节进行进一步了解的话，可以参考本申请的背景技术部分记载的关于现有技术的内容。

本申请实际上是对现有技术的改进，改进点在于，在现有技术的基础上增加了化学研磨截止层140，参见图1。

                                                           图1

现有技术的刻蚀工艺处理结果示意图如图2所示：

                                                    图2
由于顶层选择栅切线氧化物材料（图2中的70或图1中的190）的刻蚀速率大概是TEOS层（图2中的80）刻蚀速率的2.3倍，这就加剧了接触孔纵截面的弯曲状情况；而化学研磨截止层140的作用在于，将ALD沉积顶层选择栅切线氧化物材料（180）步骤中形成的多余的顶层选择栅切线氧化物材料层（图1中的190或图2中的70）去除，从而在随后的接触孔湿法刻蚀工艺中，避免了由于氧化物层的过快刻蚀而导致的接触孔的弯曲状形貌的加剧。

合议组认为：
对比文件1中没有涉及本申请“避免刻蚀速率不同导致的插塞氧化物的凹陷，进而改善接触孔纵截面的弯曲状情况”的技术问题，因而也没有给出解决上述技术问题而采用相应技术手段的技术启示；对比文件2中也没有涉及本申请中“避免刻蚀速率不同导致的插塞氧化物的凹陷，进而改善接触孔纵截面的弯曲状的情况”的技术问题，同样没有给出解决上述技术问题的而采用相应技术手段的技术启示。因此，本领域技术人员在对比文件1、对比文件2公开内容的基础上，不能显而易见地得到本申请权利要求1所请求保护的技术方案。

总结

该案例充分体现了方案实际解决的技术问题在发明的创造性评判中的重要作用，该案例的审查意见中指出，本申请所要解决的技术问题为：制作选择栅切线，但实际上本申请所要解决的技术问题为：避免刻蚀速率不同导致的插塞氧化物的凹陷，进而改善接触孔纵截面的弯曲状情况，可见，在很多情况下，审查员对方案技术问题的认定并不准确，审查员确定实际解决的技术问题时，可能会带入技术手段，或者认定过于模糊、割裂区别特征之间的关联性等等，导致对方案创造性的评估结果低于预期。

因此，代理人进行审查意见答复过程中，在确定申请文件与对比文件相比存在的区别技术特征后，可按照“根据区别特征在要求保护的发明中所能达到的技术效果确定发明实际解决的技术问题”的原则，分别确定本申请与对比文件分别所要解决的技术问题。
例如，本案例中，审查意见中指出，本申请与对比文件1的区别技术特征“化学研磨截止层”被对比文件2公开，因此，该区别技术特征容易想到，但实际上，尽管对比文件2中公开了研磨停止层、研磨缓冲层、绝缘材料等技术特征，但实际上对比文件2中公开的前述技术特征获得技术效果是改善平坦化工艺后的浅沟槽内的绝缘材料的平坦度，与本申请化学研磨截止层所起的作用不同，所解决的技术问题也不同，因此，本申请所要解决的技术问题并未被对比文件公开，本申请具备创新性。

可见，在审查意见答复过程中，可通过分析区别技术特征在要求保护的发明中所能达到的技术效果确定所要解决的技术问题，并且，在分析技术效果时，可对区别技术特征与方案中其他技术手段的相互支持、存在相互作用的关系进行分析，以从整体上确定申请文件或对比文件的发明构思以及技术问题，从而判断审查员认定的技术问题是否准确，以避免陷入“事后诸葛亮”的误区。